半導体核心素材のフォトレジスト、韓国内施設増設…「脱日本」早まる
ⓒ 中央日報/中央日報日本語版2020.01.15 15:40
半導体核心素材フォトレジストを製造する韓国企業が生産設備の増設を始めた。素材・部品・装備の「脱日本化」が速度を上げることになる。
15日の産業通商資源部の発表によると、半導体・ディスプレイ用素材業者の東進(トンジン)セミケムは、今年1-3月期中にフォトレジスト生産設備の増設に着手する計画だ。東進セミケムは2010年に国内初の「極紫外線(EUV)用フォトレジスト」の直前の段階である「フッ化アルゴン(ArF)液浸フォトレジスト」の開発・生産に成功した。