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韓経:KAIST「材料・部品・装備」技術、民間企業に移転…日本の経済報復に対応

ⓒ 中央日報/中央日報日本語版2019.09.17 10:44
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韓国科学技術院(KAIST)が17日、ソウルCOEXで技術移転説明会を開く。日本の輸出規制対象に分類された材料や部品、装備関連の技術を民間企業に移転するのが目的だ。半導体製造に使われるフォトレジスト(感光液)技術などが企業に公開される。

キム・サンユル化学科教授は「低熱膨張フッ素化透明ポリイミド」技術を紹介する。フレキシブルディスプレー、デジタルサイネージ(大型広告看板)、自動車フロントガラスディスプレーなどに使われる材料だ。キム教授は「ガラスのように透明でありながら400度以上の熱に耐えて柔軟」とし「既存の有機発光ダイオード(OLED)工程にも適用することができる」と説明した。

キム・ジンベク化学科名誉教授は半導体リソグラフィー(フォトエッチング工程)に使われるフォトレジスト技術を公開する。超微細半導体回路工程であるアルゴンフロライド(ArF)、極端紫外線(EUV)リソグラフィーに活用することができる。

イ・ジョンリュル航空宇宙工学科教授は電磁気性能非破壊検査技術を移転する。宇宙航空、自動車、発電所、石油ガスなどエネルギー関連企業に有用な技術だ。外国製の半額以下の安さに加えて検査項目も多いというのがKAIST側の説明だ。電気自動車に使われるリチウム二次電池性能向上技術も紹介される。通常使われているリチウムイオン電池に代わるリチウム・硫黄二次電池陽極物質の製造技術だ。

今回紹介される9つの技術は教授および弁理士、ベンチャー投資家など20人余りの専門家で構成された審査団が評価して選定した。

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