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GSOMIA延長期限満了が目前…日本、半導体材料2件目の輸出を承認

ⓒ 中央日報/中央日報日本語版2019.08.21 07:43
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韓日外相会談(21日)と軍事情報包括保護協定(GSOMIA)の延長期限の満了(24日)を目前にして、日本が輸出規制品目に指定した極端紫外線(EUV)用フォトレジスト(PR)2件目の輸出を承認した。両国が葛藤解決への糸口を見出すことができるかどうかに注目が集まっている。

20日、韓国政府と業界によると、日本政府はサムスン電子から受注したJSRのEUV用フォトレジストに対する輸出申請を承認した。日本政府が今月7日の信越ケミカルに続き、JSRの輸出申請も承認したことで、サムスン電子は7ナノメートル以下の超微細半導体工程に必要な約9カ月分のEUV用フォトレジストの在庫を確保できることになった。

日本は7日、輸出相手国の分類体系を改編し、韓国を従来のホワイト国(安保友好国家)から排除して、軍事的転用の恐れがある品目は個別許可を受けなければならないBグループ国家に指定した。これに伴い、今回の輸出承認はBグループの韓国とCグループに属している台湾との公平性を考慮した措置という分析だ。

現在、軍事転用の可能性がある多くの品目に対して個別許可を受けているCグループに属している台湾のファウンドリ会社「TSMC」は日本から何の問題もなくEUV用フォトレジストを輸入して使っている。

半導体業界関係者は「Cグループである台湾にも輸出を承認しながら、Bグループである韓国の承認を拒否すれば日本は自己矛盾に陥る」とし「韓国に対する輸出規制が経済報復ではなく戦略物資管理次元という名分を守るためにも、間隔を開けながら承認するほかないだろう」と話した。政界では「外相会談やGSOMIA延長を目前に置いて、韓国の鋭鋒を鈍らせる戦略」という解釈がある。

また、日本政府の今回の承認は、輸出規制後に相次いでいる自国企業の「脱日本化」を防ぐための苦肉策という側面もある。日本政府が韓国に対する輸出規制を始めてから、高純度フッ化水素やEUV用フォトレジストを作る日本企業は売り上げ減少を挽回するために海外工場を通した迂回輸出に乗り出している。

高純度フッ化水素を作る盛田化学の森田康夫社長は、日本経済新聞社の取材を通じて「今回の件(輸出管理の厳格化)で日本企業のシェアが低下しかねない」とし「中国浙江省の工場で、高純度フッ化水素の生産を始める」と公言したことがある。

実際、盛田化学は浙江省の工場で、EUV用フォトレジストを作るJSRと東京応化工業はそれぞれベルギーと韓国工場の生産量を増やした。半導体業界関係者は「信越ケミカルが1件目の輸出承認を受けたことも、海外工場がなく一番最初に売り上げ被害が発生したため」としながら「安倍政府でも自国企業が海外に生産拠点を移すのは非常に負担になるだろう」と話した。

日本政府がEUV用フォトレジストの輸出2件を時間差で承認しながら、高純度フッ化水素の承認についても関心が集まっている。半導体業界関係者は「フッ化水素は日本政府が軍事的転用の可能性を直接言及した材料なので、フォトレジストほど早く承認はできないだろう」と予想した。

だが、高純度フッ化水素はサムスン電子とSKハイニックスが国内企業などと協力して国産化と同時に工程ラインのテストを進めている。これに伴い、日本企業の輸出が再開されても、一定量は国産製品を使用でき、日本企業のシェアは減るほかはないとの見通しが出ている。

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