サムスン、インテルも放棄した超高難度非メモリーチップ量産…世界初
ⓒ 中央日報/中央日報日本語版2019.05.01 11:31
文在寅(ムン・ジェイン)大統領と李在鎔(イ・ジェヨン)サムスン電子副会長(51)が出席した中、サムスン電子が30日、京畿道(キョンギド)華城(ファソン)事業場で世界初めて極端紫外線(EUV)工程が適用された7ナノメートル(nm)アプリケーションプロセッサ(AP)の出荷式を行った。非メモリー半導体成長戦略で民間と政府が協力する姿だ。
サムスン電子がこの日出荷した7ナノAPはスマートフォンの演算能力などを掌握するチップで、APはシステム半導体の中でも核心だ。7ナノ工程の世界初量産は台湾TSMCだが、サムスン電子は従来のフッ化アルゴン(ArF)工程より優れたEUV工程をTSMCよりも先に採択した。サムスン電子は最近、半導体委託生産(ファウンドリー)分野グローバル1位の台湾TSMCに対する追撃速度を高めている。