中国が半導体生産に必須の深紫外線（DUV）露光装置の国産化に成功し、米国の半導体封鎖網に亀裂が入った。自ら汎用半導体を作る基礎体力は確保したが、これをすぐ先端工程保有と見るのは「錯視」との見方が優勢だ。

①生産性低いがコストは上昇

業界によると、中国国営企業の愛晟納が独自開発した浸漬型DUV露光装置が近くSMICと華虹半導体、長鑫存儲技術（CXMT）など中国主要ファブ（半導体工場）に供給される。露光装置はウエハーに半導体を刻み込む超精密プリンタだ。この装置は今年約5台、来年20台前後が投入され、自動車と家電などに使われる28ナノメートルチップの生産に使われると推定される。中国メディアのグローバルタイムズは「対中制裁が効果をみるだろうという西側投資家の盲目的信頼が揺らいだ」と伝えた。

今回の成功で「中国崛起」が再び注目されているが、「経済性」には疑問が提起される。最先端半導体に使われる極端紫外線（EUV）露光装置は現在オランダ企業ASMLが唯一生産しているが、DUVとは性能格差が大きい。EUV装置が1回で終わらせる露光作業を、DUV装置を使う場合には蒸着、蝕刻、洗浄までの工程を2～4回以上繰り返さなければならない。

半導体生産は工程が増えるほど費用と時間、欠陥発生率が雪だるま式に増える構造だ。成均館（ソンギュングァン）大学化学工学部のクォン・ソクチュン教授は「特定のチップひとつを作るには成功したかも知れないが実際の大量生産ラインで経済性を確保できるかは疑問」と話す。

②堅固な技術・フィードバック生態系

供給網を構成する技術生態系の障壁も高い。EUV装置は微細なスズの液滴に高出力レーザーを放って太陽の表面より熱いプラズマを作り、ここから出る13．5ナノメートルの波長の光を活用する。この過程で核心的な役割をする米国企業サイマーの光源、ドイツ企業トランプの高出力レーザー、生成された光を損失なくウエハーまで伝えるドイツ企業ツァイスの超精密光学系はいずれもASMLを中心に構築された「独占同盟生態系」だ。これに対し中国はDUV装置の一部に日本など外国製部品も使ったとされる。

顧客が装置をともに検証する「フィードバック生態系」も超えるのが難しい山だ。漢陽（ハニャン）大学新素材工学部のアン・ジンホ教授は「ASMLの本当の武器は世界的部品メーカーと最上位顧客企業との間の細かい協力関係。顧客とフィードバックをやりとりして技術を積み上げる時間が必須」と強調した。

③米国の「アフターサービス封鎖」の障壁

米国の追加規制も中国を締め上げている。4月に発議されたハードウエア技術規制の多国間調整法（MATCH法）は中国が持つASMLのDUV装置約1400台のメンテナンスと部品供給まで遮断する。すでにASMLのEUV装置の対中輸出が閉ざされた上に、DUV装置まで最新モデルより8世代前の旧型製品だけ供給される状況で既存装置のアフターサービスまで封鎖されることになる。

それでも韓国の半導体業界は中国の恐ろしい追撃自体は警戒しなければならないと口をそろえる。ある半導体装置業者高位関係者は「中国が見せるDUV技術力そのものより、封鎖網を乗り越えようと注ぎ込む執念、政府が主導的に個別企業の資本、人材、技術力をひとつに集めることが本当に脅威。われわれも韓国国内の半導体テストベッド構築と生態系強化にスピードを出さなければならない」と話した。