ＳＫハイニックスの中国現地法人で勤務していた職員が中国企業に移ろうとして半導体技術を流出させた事実が摘発され、７日、拘束状態で起訴された。

ソウル中央地検情報技術犯罪捜査部（アン・ドンゴン部長検事）はこの日、産業技術流出防止および保護に関する法律違反など疑いでキム容疑者（５１）を拘束起訴したと明らかにした。

検察によると、キム容疑者は２０２２年、ＳＫハイニックスのＣＩＳ（ＣＭＯＳ　Ｉｍａｇｅ　Ｓｅｎｓｏｒ、光をデジタル信号に変換する半導体素子）関連の先端技術、営業秘密を無断で持ち出して不正に使用した疑いを受ける。

キム容疑者は中国最大通信装備企業ファーウェイの子会社ハイシリコンから転職の提案を受けて犯行に及んだことが分かった。

キム容疑者はセキュリティー規定を破って社内文書管理システムから先端技術、営業秘密資料を出力したり写真を撮影したりしたと、検察は把握した。

キム容疑者が撮影した技術資料写真は約１万１０００枚にのぼる。一部の資料の場合、流出禁資料という事実や出どころを隠すために「対外秘」や会社ロゴなどを削除して撮影したことが分かった。

キム容疑者が撮影した資料の中には人工知能（ＡＩ）に使用されるＨＢＭ（Ｈｉｇｈ　Ｂａｎｄｗｅｄｔｈ　Ｍｅｍｏｒｙ、高帯域幅メモリー）具現に必須の技術ハイブリッドボンディング技術の資料も含まれていたと、検察は明らかにした。

またキム容疑者はＳＫハイニックスの営業秘密資料を引用して作成した履歴書を中国企業２社に提出したことが確認された。