国家核心技術に指定された半導体洗浄装備の製造技術を中国に流出させた容疑で半導体洗浄装備メーカー、セメスの元研究員らが逮捕され裁判にかけられた。

水原（スウォン）地検防衛事業・産業技術犯罪捜査部はセメスの元社員Ａと協力会社代表のＢ、中国国籍の技術流出ブローカーＣら４人を産業技術保護法違反、不正競争防止法違反（営業秘密国外漏洩など）の容疑で逮捕起訴した。セメスの協力企業社員１人も同じ容疑で在宅のまま裁判に渡された。

２０１６年にセメスを退社し２０１９年に別の会社を設立したＡ被告は２０２１年６月にこの装備の図面をセメス協力企業代表のＢ被告からメッセンジャーアプリで受け取り、これをブローカーＣ被告に流した容疑を受けている。Ａ被告は中国の半導体メーカーに超臨界洗浄装備１０台（１台当たり２４８億ウォン）を納品し技術移転をして協約も結んだ。ただその後検察の捜査が始まり実際に装備が納品されたのかは確認されていない。セメスは超臨界技術開発研究費約３５０億ウォンなどの直接損害を受けたと推定される。

Ａ被告はこのほか自身の会社を辞めたセメスの元研究員と共謀してセメスの枚葉式リン酸洗浄装備技術情報を持ち出した容疑も受けている。リン酸洗浄装備はリン酸薬液を使って半導体ウエハーを１個ずつ洗浄する装備だ。２０１９年７月から２０２２年１０月まで会社の資金２７億ウォンを横領した容疑もＡ被告は受けている。

検察は２０２１年１０月からセメスの技術流出事件を捜査してきた。昨年１月～５月にＡ被告ら１０人を裁判にかけた。Ａ被告は当時、湿式半導体洗浄装備の技術を流出した容疑で逮捕起訴され裁判を受けたが、今回は超臨界半導体洗浄装備技術の流出容疑が提起され再び逮捕されて追加起訴された。Ａ被告らは当時湿式洗浄装備２０台を中国企業に売り１１３９億ウォンの利益を上げたとされる。検察は洗浄装備など２３４億ウォン相当の動産、３０１億ウォンほどの債券・不動産仮差押さえなど約５３５億ウォンに対し追徴補填命令を執行した状態だ。

検察はＡ被告らが持ち出した技術情報が２０ナノメートル以下のメモリー製造などに使われる国家核心技術である点を強調した。検察関係者は「半導体設備分野の技術競争力低下は親会社の半導体生産競争力低下につながり、産業全般にわたって数兆ウォン以上の被害が発生する可能性がある」と話した。