GSOMIA延長期限満了が目前…日本、半導体材料2件目の輸出を承認
ⓒ 中央日報/中央日報日本語版2019.08.21 07:43
韓日外相会談(21日)と軍事情報包括保護協定(GSOMIA)の延長期限の満了(24日)を目前にして、日本が輸出規制品目に指定した極端紫外線(EUV)用フォトレジスト(PR)2件目の輸出を承認した。両国が葛藤解決への糸口を見出すことができるかどうかに注目が集まっている。
20日、韓国政府と業界によると、日本政府はサムスン電子から受注したJSRのEUV用フォトレジストに対する輸出申請を承認した。日本政府が今月7日の信越ケミカルに続き、JSRの輸出申請も承認したことで、サムスン電子は7ナノメートル以下の超微細半導体工程に必要な約9カ月分のEUV用フォトレジストの在庫を確保できることになった。