「政府でなく大企業主導の素材・部品・装備国産化が必要な時期だ」。

ソルブレインのパク・ヨンス研究所長（副社長）は７日、ソウル良才洞（ヤンジェドン）のエルタワーで開催された緊急討論会「日本の半導体・ディスプレー素材輸出規制に対する科学技術界の対応案」でこのように述べた。日本の対韓国輸出規制をきっかけに素材・部品・装備国産化議論に弾みがついている中、関連議論が過去のように「政府主導」でなく「大企業主導」で進められるべきということだ。ソルブレインは日本から素材の輸入が暫定中断されたエッチングガス（高純度フッ化水素）の国産化に成功した企業だ。

パク副社長は政界で話されている無分別な国産化を警戒した。パク副社長は「素材・部品・装備国産化を強制すれば韓国が築いてきた半導体の競争力まで失うおそれがあるという点を看過してはいけない」とし「最高の素材・部品・装備で半導体を製造する米マイクロンや東芝より競争力が落ちるしかない」と指摘した。無条件に国産化するのではなく、最高の製品を最も安く供給できる代表企業を育成すべきということだ。

パク副社長は「大企業の中長期ロードマップに基づいた国産化課題が必要だ」とも強調した。素材・部品・装備を国産化する最も良い方法は「技術の変曲点」で関連技術を先に獲得することだ。ソルブレインもサムスン電子が世界で初めて平面ＮＡＮＤ型フラッシュメモリーから３次元（３Ｄ）ＮＡＮＤ型フラッシュメモリーに転換する時期に高選択比エッチング液を開発し、市場を確保した。

半導体装備企業ジュソンエンジニアリングのファン・チョルジュ会長は「革新は危険要素（リスク）と速度、時間を克服する時に可能」とし「今まで公務員と大企業はリスクを負わず、中小企業は大企業が望む速度と時間に合わせることができなかった」と指摘した。続いて「これを克服してこそ『勝つ技術』を開発できる」と強調した。

別の装備企業ウォンイクＩＰＳのイ・ヒョンドク社長は「グローバル最高装備会社と比較して国内企業の売上高に対する研究開発（Ｒ＆Ｄ）投資規模は１０分の１にもならない」とし「技術難度が高まっているがＲ＆Ｄ投資には消極的であるため、すでにグローバル企業が開発した製品を国産化する程度の技術開発にとどまっている」と指摘した。続いて「少ないＲ＆Ｄ費用を効果的に使うにはＲ＆Ｄに対する税制優遇を拡大する必要がある」と主張した。

メカロのイ・ジョンス社長は「法律のため技術開発費用より許認可費用が多くかかり、Ｒ＆Ｄに集中するより週５２時間制の施行などで勤労者をなだめて対策を立てるのに時間を使っている」と吐露した。