李在鎔（イ・ジェヨン）サムスン電子副会長が２５日、京畿道水原（キョンギド・スウォン）にあるサムスン総合技術院を訪ねた。サムスン総合技術院は１９８７年以降サムスンの研究・開発（Ｒ＆Ｄ）の中心的な役割を果たしている。現在１７研究室で約１２００人が人工知能（ＡＩ）・量子コンピュータなど次世代技術を研究している。

李副会長は技術院を訪問した席で「大変で厳しい時こそ未来を徹底して準備しなければならない。国民の声援にわれわれが応えられる道は革新」と話した。また「限界にぶつかったと思われる時、もう一度頑張って壁を越えよう」と強調した。サムスンによると、李副会長は技術院で▼ＡＩ半導体とソフトウェアのアルゴリズム▼量子コンピューティング技術▼未来保安技術▼半導体・ディスプレイ・電池の革新素材－－などについて意見を交換した。サムスン電子の部品事業の首長を務めるキム・ギナムＤＳ部門長（副会長）とファン・ソンウ総合技術院長（社長）などが参加した。

サムスン電子はこの日、半導体会社の中で初めてＤＲＡＭにも極端紫外線（ＥＵＶ）工程を適用して量産体制を整えたと発表した。サムスン電子のデバイスソリューション（ＤＳ）部門は「ＥＵＶ工程で生産した第１世代（１ｘ）１０ナノメートル（ｎｍ）級ＤＤＲ４ＤＲＡＭ１００万個以上を世界の顧客に供給した」と明らかにした。

１ナノメートルは１０億分の１メートルで、人の髪の毛の太さ（１０マイクロメートル）の約１万分の１だ。ＤＤＲ４ＤＲＡＭはＰＣやサーバーの臨時記憶装置に使うメモリー半導体だ。サムスン電子は世界のＤラム市場で約４５％のシェアを誇り１位だ。

光の一種類であるＥＵＶは半導体を作る時、ウェハー上に線路を描く露光工程に使われる。現在、多く使われるフッ化アルゴン（ＡｒＦ・１９３ｎｍ）に比べると、光の波長（１３ｎｍ）が１４分の１程度なのでさらに微細な回路を描くことができる。大量生産が必要なＤＲＡＭにＥＵＶ工程を取り入れれば、同じ作業を繰り返すことが減り量産規模を増やす効果を期待することができる。