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半導体核心素材のフォトレジスト、韓国内施設増設…「脱日本」早まる

ⓒ 中央日報/中央日報日本語版2020.01.15 15:40
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半導体核心素材フォトレジストを製造する韓国企業が生産設備の増設を始めた。素材・部品・装備の「脱日本化」が速度を上げることになる。

15日の産業通商資源部の発表によると、半導体・ディスプレイ用素材業者の東進(トンジン)セミケムは、今年1-3月期中にフォトレジスト生産設備の増設に着手する計画だ。東進セミケムは2010年に国内初の「極紫外線(EUV)用フォトレジスト」の直前の段階である「フッ化アルゴン(ArF)液浸フォトレジスト」の開発・生産に成功した。

フォトレジストとは、半導体製造工程で必須で使用されている感光材でこれまで日本からほとんどを輸入してきた。産業部は、東進セミケム工場増設が完了して来年初めに正常稼動すれば国内のフォトレジスト生産量を2倍以上に増やすことができると期待している。

先立って政府は昨年7月、日本が韓国への半導体核心素材の輸出を規制してから、対日本の輸入依存度を着実に下げてきた。韓国貿易協会によると、2019年1~6月の日本からのフォトレジスト輸入の割合は全体の92%を占めていたが、7~11月にベルギー・米国・ドイツなどに輸入国を多様化させる努力により依存度を85%まで下げた。

9日には、米国の世界的な化学素材企業デュポン(DuPont)が韓国にフォトレジスト開発・生産設備を構築することにした。政府は2021年までにフォトレジストの研究・開発(R&D)に230億ウォン(約22億円)の予算を投入し、国内の技術開発や量産の評価などを支援する計画だ。

この日産業部の鄭升一(チョン・スンイル)次官が京畿道華城市(キョンギド・ファソンシ)の東進セミケム工場を訪問し、「昨年7月の日本の輸出規制以来、官民が力を合わせてフォトレジストをはじめとする『素材・部品・装備』の3大品目など、核心素材の供給安定性が確保されている」とし「1-3月期中にフォトレジストの国内供給の安定性がさらに強化されることを期待する」と述べた。

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