半導体核心素材フォトレジストを製造する韓国企業が生産設備の増設を始めた。素材・部品・装備の「脱日本化」が速度を上げることになる。

１５日の産業通商資源部の発表によると、半導体・ディスプレイ用素材業者の東進（トンジン）セミケムは、今年１－３月期中にフォトレジスト生産設備の増設に着手する計画だ。東進セミケムは２０１０年に国内初の「極紫外線（ＥＵＶ）用フォトレジスト」の直前の段階である「フッ化アルゴン（ＡｒＦ）液浸フォトレジスト」の開発・生産に成功した。

フォトレジストとは、半導体製造工程で必須で使用されている感光材でこれまで日本からほとんどを輸入してきた。産業部は、東進セミケム工場増設が完了して来年初めに正常稼動すれば国内のフォトレジスト生産量を２倍以上に増やすことができると期待している。

先立って政府は昨年７月、日本が韓国への半導体核心素材の輸出を規制してから、対日本の輸入依存度を着実に下げてきた。韓国貿易協会によると、２０１９年１～６月の日本からのフォトレジスト輸入の割合は全体の９２％を占めていたが、７～１１月にベルギー・米国・ドイツなどに輸入国を多様化させる努力により依存度を８５％まで下げた。

９日には、米国の世界的な化学素材企業デュポン（ＤｕＰｏｎｔ）が韓国にフォトレジスト開発・生産設備を構築することにした。政府は２０２１年までにフォトレジストの研究・開発（Ｒ＆Ｄ）に２３０億ウォン（約２２億円）の予算を投入し、国内の技術開発や量産の評価などを支援する計画だ。

この日産業部の鄭升一（チョン・スンイル）次官が京畿道華城市（キョンギド・ファソンシ）の東進セミケム工場を訪問し、「昨年７月の日本の輸出規制以来、官民が力を合わせてフォトレジストをはじめとする『素材・部品・装備』の３大品目など、核心素材の供給安定性が確保されている」とし「１－３月期中にフォトレジストの国内供給の安定性がさらに強化されることを期待する」と述べた。