韓経:サムスン・SKハイニックス、極端紫外線でDRAM量産
ⓒ 中央日報/中央日報日本語版2019.10.21 11:22
SKハイニックスとサムスン電子がDRAM生産ライン用の極端紫外線(EUV)装備を発注するなどEUV技術を適用したDRAM量産を進めている。EUV工程は半導体のウェハーに極端紫外線を利用して回路を描いている。従来のフッ化アルゴン(ArF)工程と比べて短い時間に高効率・超小型半導体を生産できる。産業界では第5世代(5G)移動通信の普及に合わせて超小型・高性能DRAMを望むモバイル、サーバー企業などの要求と生産効率性を高めようとする半導体企業の動きが一致した結果という分析が出ている。
◆利川にEUV専用ライン構築
半導体装備業界によると、SKハイニックスは最近、オランダASMLに「DRAM量産用」EUV装備1台を発注したことが明らかになった。EUV装備は世界でASMLだけが生産能力を保有する。価格はモデルによって異なるが1台あたり1500億-2000億ウォン(約138億-184億円)。研究開発(R&D)用EUV装備の場合、SKハイニックスはすでに2台以上保有しているという。