韓国SKハイニックス、中国DRAM生産ライン拡張
ⓒ 中央日報/中央日報日本語版2019.04.19 12:59
韓国のSKハイニックスが18日、中国無錫でDRAM生産ラインC2Fの竣工式を行った。従来のDRAM半導体生産ライン(C2)を拡張したC2Fは建築面積が5万8000平方メートル(約1万7500坪)規模。
「新しい跳躍、新しい未来」というテーマで開かれたこの日の竣工式には、李小敏無錫市書記、郭元強江蘇省副省長、崔泳杉(チェ・ヨンサム)上海総領事、李錫熙(イ・ソクヒ)SKハイニックス代表取締役、協力会社代表など約500人が出席した。
SKハイニックスは2004年に中国江蘇省無錫市と現地工場設立契約を締結し、2006年からDRAMの生産を始めた。当時建設されたC2はSKハイニックスの最初の300ミリファブ(FAB)で、現在までSKハイニックス成長に大きく寄与してきた。ファブは半導体工場を表す用語。